PECVD 장비로 실리콘옥사이드 박막 증착 하는 공정에서 사용하는 실란 가스 농도

PECVD 장비로 실리콘 옥사이드 박막을 증착 하는 경우, 100% 실란 가스를 사용하면, 공정 조건을 확인 하기가 어렵습니다.

원하는 특성의 박막을 얻기 위해서는 10%정도 포밍되어 있는 실란 가스를 사용하는 것이 실란의 미세량 조절에도 용이하고, 플라즈마 방전에도 장점이 있습니다.

그리고, MFC의 적절한 용량을 선택하는 것에도 유리합니다.

2024년 9월 13일 금요일 나의 투자 기록

 1. 사람은 각자의 고민이 있게 마련이다. 이게 어떤 조직을 이루고 있고, 많은 사람이 그 조직에 섞여 있으면서 각자의 고민이 조직에 영향을 주게 된다. 즉 문제가 발생하는 요인이 되는 것이다. 다른 사람의 고민을 감지하고, 고민을 알게 되었다면 2...