PECVD 장비로 실리콘 옥사이드 박막을 증착 하는 경우, 100% 실란 가스를 사용하면, 공정 조건을 확인 하기가 어렵습니다.
원하는 특성의 박막을 얻기 위해서는 10%정도 포밍되어 있는 실란 가스를 사용하는 것이 실란의 미세량 조절에도 용이하고, 플라즈마 방전에도 장점이 있습니다.
그리고, MFC의 적절한 용량을 선택하는 것에도 유리합니다.
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Evaporation 1) 낮은 에너지(0.1 eV 이하) 2) High Vacuum 공정에 따른 방향성이 좋다 3) Lift-Off 에 적합하다. 4) 박막의 순도가 좋다. 5) 균일도 확보가 비교적 어렵다. 6) 증착속도의 조절이 비교...