PLD 시스템에서 AR 코팅 윈도우의 설치 방향은 어떻게 되나요?
양면 코팅된 윈도우를 사용한다면, 방향이 없습니다.
하지만, 보통 한쪽면만 코팅된 스크린 윈도우를 사용합니다.
이때 코팅된 면이 바깥으로 향하게 설치해 줍니다.
만약 코팅된 면이 외부 물질에 의해 변형 되거나 깍여나가서 문제가 된다면, 광학적 크리닝을 해주거나, 교체 설치 해주는 것이 좋습니다.
잉크젯 프린팅 OLED
분말 형태, 또는 액체 형태의 OLED 소재를 열로 증착하지않고 프린팅 노즐에서 용액화하여 미세하게 분사, 기판 위에 일정한 막을 형성하는 방법으로 제작된 OLED 디스플레이 장치 제작 방식을 의미합니다.
장점
1. 원하는 부분에 직접 분사하는 방식으로 소재의 활용도가 높다.
2. 증착 공정 과정이 없으므로, 전체 생산 공정을 줄일 수 있으며, 생산 공정이 단순해 진다.
3. 컬러필터 등 주요 부품을 사용하지 않으므로 부품 비용을 줄일 수 있다.
4. 폐기물이 없는 100% 친환경 공정이 가능하다.
5. 커다란 기판도 다른 공정에 비해 무리없이 대량 생산이 가능하다.
출처 LG 디스플레이
장점
1. 원하는 부분에 직접 분사하는 방식으로 소재의 활용도가 높다.
2. 증착 공정 과정이 없으므로, 전체 생산 공정을 줄일 수 있으며, 생산 공정이 단순해 진다.
3. 컬러필터 등 주요 부품을 사용하지 않으므로 부품 비용을 줄일 수 있다.
4. 폐기물이 없는 100% 친환경 공정이 가능하다.
5. 커다란 기판도 다른 공정에 비해 무리없이 대량 생산이 가능하다.
랩뷰에서 클러스터 데이터를 문자로 변환 한후 다시 클러스터 형태로 불러오는 방법
랩뷰에서 클러스터 데이터를 많이 사용하는데,
이런 클러스터 데이터를 문자열로 변환하여 저장 했다가, 다시 불러올 필요가 생겼습니다.
그래서 한번 만들어 보았습니다.
1. 클러스터 데이터를 생성
2. 클러스터 데이터를 베리언트 데이터로 변환
3. 베리언트 데이터를 문자로 변환
4. 문자를 텍스트 파일로 저장했다가 다시 불러올 생각
5. 불러온 문자를 베리언트로 변환
6. 베리언트를 클러스터 데이터로 변환
클러스터의 데이터를 파일로 저장했다가, 불러오기 위함인데요.
파일 저장부분은 차후에 만들어 보고.
일단 데이터 변환에 대한 개념을 볼까해서 만들어 보았습니다.
RHEED 시스템 뮤메탈 쉴드의 필요성
RHEED 시스템에서 스크린에 초점이 안맞고 8자로 형성되는 경우에는 주변 자기장에의한 문제일 가능성이 있습니다.
이런 것이 의심스러운 경우에는 뮤메탈 쉴드를 설치해 주어야 합니다.
참고 사이트
증여세가 나오지 않고 자녀에게 증여가능한 금액, 방법?
증여자와 수증자가 밀접한 인적 관계에 있는 경우 증여세 과세가액에서 일정액을 공제하여 여 조세혜택을 준다.
즉, 큰 돈이 없는 일반인이 그나마 조금 있는거 줄때는 세금에 혜택을 준다는 것인데? 그 기준이 과연 얼마인가?
1. 배우가에게는 6억원
2. 직계존비속에게는 5천만원, 미성년자인 경우에는 2천만원
3. 기타 인척간에는 1천만원이 기준입니다.
1천만원 이상의 경우에는 10년간 금액을 합산합니다.
이건 뭐 자녀에게 서울 전세라도 하나 장만 할 때 도와 줄 수 있나 모르겠네요.
즉, 큰 돈이 없는 일반인이 그나마 조금 있는거 줄때는 세금에 혜택을 준다는 것인데? 그 기준이 과연 얼마인가?
1. 배우가에게는 6억원
2. 직계존비속에게는 5천만원, 미성년자인 경우에는 2천만원
3. 기타 인척간에는 1천만원이 기준입니다.
1천만원 이상의 경우에는 10년간 금액을 합산합니다.
이건 뭐 자녀에게 서울 전세라도 하나 장만 할 때 도와 줄 수 있나 모르겠네요.
텔레마크 이빔을 이용한 박막 증착 장비의 적절한 냉각수 설정
이빔을 사용하면서 안정적인 냉각수의 공급은 매우 중요합니다.
장비의 유지 보수 측면에서도 중요하지만, 냉각수의 상태가 변하게 되면 공정조건 역시 변하게 됩니다.
연구용으로 많이 사용하는 텔레마크의 246건을 살펴 보면,
분당 8리터 정도의 냉각수가 3/8" 라인 기준으로 4Kg/cm2 이상의 압력으로 공급 되어야 합니다.
냉각수 온도는 보통 15도 이상으로 설정해야 하는데, 조건을 확인 하고 난 후의 냉각수 온도는 바꾸지 않는 것이 좋습니다.
냉각수의 온도가 변화하게 되면, 공정 파워의 변화가 생겨서 안정적인 재현성에 문제가 생길 수 있습니다.
그리고, 너무 낮은 온도는 결로 현상이 발생하여 전기적인 문제를 일으키는 경우가 있으니, 주의 해야 합니다.
장비의 유지 보수 측면에서도 중요하지만, 냉각수의 상태가 변하게 되면 공정조건 역시 변하게 됩니다.
연구용으로 많이 사용하는 텔레마크의 246건을 살펴 보면,
분당 8리터 정도의 냉각수가 3/8" 라인 기준으로 4Kg/cm2 이상의 압력으로 공급 되어야 합니다.
냉각수 온도는 보통 15도 이상으로 설정해야 하는데, 조건을 확인 하고 난 후의 냉각수 온도는 바꾸지 않는 것이 좋습니다.
냉각수의 온도가 변화하게 되면, 공정 파워의 변화가 생겨서 안정적인 재현성에 문제가 생길 수 있습니다.
그리고, 너무 낮은 온도는 결로 현상이 발생하여 전기적인 문제를 일으키는 경우가 있으니, 주의 해야 합니다.
PECVD 장비로 실리콘옥사이드 박막 증착 하는 공정에서 사용하는 실란 가스 농도
PECVD 장비로 실리콘 옥사이드 박막을 증착 하는 경우, 100% 실란 가스를 사용하면, 공정 조건을 확인 하기가 어렵습니다.
원하는 특성의 박막을 얻기 위해서는 10%정도 포밍되어 있는 실란 가스를 사용하는 것이 실란의 미세량 조절에도 용이하고, 플라즈마 방전에도 장점이 있습니다.
그리고, MFC의 적절한 용량을 선택하는 것에도 유리합니다.
원하는 특성의 박막을 얻기 위해서는 10%정도 포밍되어 있는 실란 가스를 사용하는 것이 실란의 미세량 조절에도 용이하고, 플라즈마 방전에도 장점이 있습니다.
그리고, MFC의 적절한 용량을 선택하는 것에도 유리합니다.
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