What is the minimum power required to maintain a deposition rate of 1 A/sec when palladium is deposited by E-Beam

There are many differences depending on the environment, but when it is desired to deposit with minimum power, it is enough to deposit about 3% of 10000 V e-beam power.
시간:
라벨: , ,

2024년 9월 13일 금요일 나의 투자 기록

 1. 사람은 각자의 고민이 있게 마련이다. 이게 어떤 조직을 이루고 있고, 많은 사람이 그 조직에 섞여 있으면서 각자의 고민이 조직에 영향을 주게 된다. 즉 문제가 발생하는 요인이 되는 것이다. 다른 사람의 고민을 감지하고, 고민을 알게 되었다면 2...

  • 한 챔버 안에서 바라트론게이지 값이 일반 진공게이지 값과 다른 이유
    보통 스로틀 밸브와 연동해서 사용하는 바라트론 게이지를 보면, 진공도 값이 일반적인 진공게이지 값과 차이가 있습니다. 이 값이 다른 이유는 바라트론게이지의 경우 절대게이지로서, 제로값에서 일정 압력 값까지 측정하는 방식이기 때문입니다. 보통의 ...
  • Evaporation과 Sputtering 박막의 일반적인 차이점
    Evaporation 1) 낮은 에너지(0.1 eV 이하) 2) High Vacuum 공정에 따른 방향성이 좋다 3) Lift-Off 에 적합하다. 4) 박막의 순도가 좋다. 5) 균일도 확보가 비교적 어렵다. 6) 증착속도의 조절이 비교...
  • 크라이오 펌프 재생에 관한 내용(Cryogenic Pump Regeneration)
    크라이오 펌프를 사용하다가 보면 내부 온도가 상승하거나 진공장치의 압력이 내려가지 않을 경우 크라이오 펌프를 재생해야 한다는 말을 듣게 된다.  그러면 크라이오 펌프의 재생(regeneration)이란 무엇인가? (보통 이야기할 때 재생...